赫爾納供應(yīng)美國(guó)  Swagelok  減壓閥   RD(H)30

公司簡(jiǎn)介：

赫爾納供應(yīng)美國(guó) Swagelok  減壓閥   RD (H)30，德國(guó)總部直接采購(gòu)，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，在中國(guó)設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

Swagelok 減壓閥   RD(H)30品牌概況：

成立時(shí)間：1947年（美國(guó)俄亥俄州）

總部：Solon, Ohio, USA

全球分布：70+國(guó)家，200+服務(wù)中心

員工規(guī)模：約5,600名（2023年）

年?duì)I收：約$2.3B（2022年數(shù)據(jù)

美國(guó) Swagelok 減壓閥  RD(H)30產(chǎn)品類別：

1. 通用型減壓閥

應(yīng)用：實(shí)驗(yàn)室、工業(yè)氣體控制

2. 高純減壓閥

應(yīng)用：半導(dǎo)體、光伏、制藥

3. 高壓減壓閥

應(yīng)用：氫能、石油化工

4. 特種氣體減壓閥

應(yīng)用：腐蝕性/毒性氣體（Cl?、HF等）

 Swagelok 減壓閥 主要型號(hào)：

系列       代表型號(hào)       入口壓力(psi)       出口壓力(psi)       流量系數(shù)(Cv) 特殊配置

KPR KPR-1/2NPT 0-3000   0-150     0.6  黃銅閥體，面板安裝

KRB KRB-1/4VCR 0-3000   0-100     0.3  316L不銹鋼，VCR接口

HPR       HPR-6000    0-6000   0-3000   1.2  鍛造閥體，安全泄壓閥

SGP SGP-1/2C     0-5000   0-500     2.4  高純型，Electropolished

 Swagelok 減壓閥   產(chǎn)品介紹：

型號(hào)全稱：Swagelok® RD(H)30 Series Pressure Reducing Regulator

產(chǎn)品定位：高流量工業(yè)級(jí)減壓閥，適用于中高壓氣體控制

設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)：

? ASME B16.34（閥門壓力標(biāo)準(zhǔn)）

? ISO 2503（氣體減壓器規(guī)范）

優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：

1. 高性能減壓控制

精密調(diào)節(jié)：

出口壓力穩(wěn)定性 ±1% FS（全量程）

負(fù)載變化時(shí)壓力波動(dòng) <2%

大流量設(shè)計(jì)：

優(yōu)化流道結(jié)構(gòu)（壓降減少30% vs 競(jìng)品）

適合高消耗設(shè)備（如激光切割機(jī)、氣體分析儀）

2. 增強(qiáng)耐久性

關(guān)鍵部件強(qiáng)化：

硬化不銹鋼閥座（硬度HRC50+）

雙層金屬膜片（抗疲勞壽命 >500萬(wàn)次）

維護(hù)便捷：

模塊化設(shè)計(jì)，無(wú)需專用工具拆卸

3. 安全特性

內(nèi)置泄壓閥：

自動(dòng)觸發(fā)壓力 = 1.5 × 設(shè)定壓力

符合ASME UG-125標(biāo)準(zhǔn)

泄漏等級(jí)：

閥座泄漏：<0.01% of Cv（ANSI/FCI 70-2 Class IV）

4. 環(huán)境適應(yīng)性

可選配置：

低溫版：-73°C 至 +50°C（氟橡膠密封）

腐蝕環(huán)境版：哈氏合金C-276膜片

應(yīng)用：

1. 工業(yè)制造

激光切割機(jī)：

? 精確控制氧氣/氮?dú)廨o助氣體壓力

? 確保切割斷面質(zhì)量（壓力波動(dòng)<±1 psi）

2. 能源領(lǐng)域

天然氣調(diào)壓站：

? 中壓管道分支減壓（3000 → 150 psi）

? 耐硫化氫腐蝕（可選NACE MR0175版本）

3. 實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)

氣相色譜載氣控制：

? 高純氣體減壓（He/N?）

? 電解拋光流道（顆粒物<0.1μm）

4. 特殊氣體處理

硅烷(SiH?)輸送：

? 零泄漏設(shè)計(jì)（泄漏率<1×10?? sccs He）

? 銅含量<0.1%（避免硅烷分解）

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